[摘要] 劳动西路半导体厂地块，项目建设设计方案公示完毕，共由7个地块组成，业态有住宅、商业、酒店、办公、地下空间等，抽象化的京杭大运河“纽带”贯穿于建筑，表现城市文脉。
市民关注的常州半导体厂（常半微电子）及周边地块项目建设工程设计方案，上月25日至本月6日完成公示。
本项目总规划用地约61707平方米，总建设规模约407000平方米。地上建筑面积约297000平方米，其中：住宅及配套约109000平方米、商业及其配套（含酒店）约100700平方米、商务办公约85000平方米。地下建筑面积约107000平方米，其中地下商业约14900平方米。
据了解，该项目用地为商住混合用地，共由7个地块组成。
地块一为商住用地，商业MALL沿劳动西路和北侧规划道路呈L形展开，上部设置两栋办公塔楼。另两栋高层住宅塔楼，布置在地块东南侧，以减少城市道路噪音对居住环境的影响。
地块二为商业用地，沿西河沿路临河带状展开，两栋塔楼分别布置在地块南北两侧，北部结合保留的水塔设置，建设运河文化广场和下沉广场，与地块一的商业入口相呼应。
地块三和地块四为商住混合用地，底部设置3层底商，上部各为一栋住宅塔楼。
地块五、六、七均为绿地与广场用地，其中，北侧地块五结合绿化布置部分地面停车，地块七按要求规划迁址后的文物建筑属于一般不可移动文物，文物建筑主要是江南民居。
据了解，该项目由常州市橙龙置业有限公司开发建设。建筑形态设计手法取意于京杭大运河水波潋滟的意像，将自然弯曲的河道和波光粼粼的水面融入商业设计，以现代手法表现出项目特定的城市文脉，以及现代商业流动时尚的感受。这条抽象化的京杭大运河“纽带”贯穿于建筑，同时结合夜晚光电技术的运用，打造出项目动感时尚的地标效果。塔楼设计运用现代轻盈的设计手法，结合玻璃幕墙、金属线条等，体现现代活力与品位。
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